空氣過(guò)濾器凈化技術(shù)的發(fā)展歷史
更新時(shí)間：2013-09-09 點(diǎn)擊次數(shù)：2741
1、在朝鮮戰(zhàn)爭(zhēng)中，美國(guó)發(fā)現(xiàn)多數(shù)的電子儀器失靈，經(jīng)過(guò)檢查原來(lái)是灰塵的原因，對(duì)凈化技術(shù)的認(rèn)識(shí)，開(kāi)始發(fā)展凈化技術(shù)。2、1957年原蘇聯(lián)*顆人造衛(wèi)星上天后，美國(guó)發(fā)展航天領(lǐng)域，一方面精密機(jī)械加工和電子控制儀器的凈化，從月球帶回的巖石，對(duì)容器工具的潔凈有嚴(yán)格的要求，1961年*個(gè)定制凈化車(chē)間室的標(biāo)準(zhǔn)。
3、1970年1K的集成電路開(kāi)始大量生產(chǎn)，凈化技術(shù)的發(fā)展，在1969年世界衛(wèi)生組織正式制定了GMP標(biāo)準(zhǔn)。
4、80年代大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，進(jìn)一步促進(jìn)了凈化技術(shù)的發(fā)展。例如集成電路zui細(xì)光刻細(xì)條寬度達(dá)2～3m。此時(shí)美國(guó)和日本研制成0.1m級(jí)超過(guò)濾器。
5、到了90年代，藥品生產(chǎn)的發(fā)展，但隨著經(jīng)濟(jì)的變化，這一方面由于超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，使得光刻線條越來(lái)越細(xì)（已達(dá)到0.1～0.2m），另一方面海灣戰(zhàn)爭(zhēng)后，知道電子技術(shù)的重要性，可以說(shuō)凈化技術(shù)是電子技術(shù)得一大支柱。
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